一、半導體/集成電路

蓋(gai)斯帕克常(chang)年(nian)與模(mo)塊化(hua)電線設備(bei)廠家合作關系，特意(yi)開發管理規(gui)劃裝有的高純(chun)的EP級特氣柜(ju)、氣體分配柜(ju)廣泛(fan)用于濕蝕刻(wet etching)、干蝕刻(dry etching)、自然(ran)壓電化學色譜淀(dian)積（APCVD）、低(di)壓化學氣(qi)相(xiang)淀(dian)積（LPCVD）、等離子體(ti)化學氣(qi)相(xiang)淀(dian)積（PECVD）、濺射（PF）、光刻等半導體(ti)設(she)備的(de)供氣(qi)服務，同時還算征對各家(jia)工(gong)廠的(de)實際(ji)特點，量身定(ding)制(zhi)地開發(fa)了危險氣(qi)體(ti)監控管理(li)系(xi)統(tong)（GDS），為(wei)廠家(jia)的(de)安全生產(chan)保(bao)駕(jia)護行。還相(xiang)應開發(fa)了上述生產(chan)設(she)備的(de)尾氣(qi)處理(li)系(xi)統(tong)，保(bao)證了工(gong)廠廢氣(qi)的(de)排放達標(biao)